实验室简介

Laboratory Profile

公司建有半导体化学品配方研发平台,核心聚焦半导体材料的配方研发、配方优化与配方验证,构建从配方设计、原料筛选、配方性能调试到配方稳定性评估的全流程研发体系。

实验室严格遵循半导体高洁净标准,配备高精度粒径分析、ICP-MS杂质检测、原子力显微表征等先进检测设备,围绕CMP抛光液配方开展核心技术攻关,持续开发适配高端制程的氧化物、金属、阻挡层与先进介质抛光液,同步协同研发光刻胶剥离液、CMP后清洗液、显影液等系列配套材料的配方体系,为芯片制造、显示面板等领域提供高适配、高一致性的定制化配方产品与技术支撑。

实验室环境 研发设备

测试设备

Testing Equipment

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CMP双面抛光机

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运动粘度测定仪

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ICP-MS

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大粒子检测仪

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LPC大颗粒测试仪

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激光共聚焦显微镜

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原子力显微镜

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晶圆几何尺寸测试系统

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紫外可见近红外分光光度计

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激光粒度分析仪

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扫描电镜

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激光粒度仪

研发能力

R&D Capabilities

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大研发中心

东莞、成都、苏州三大研发中心

全流程

配方研发体系

从配方设计到稳定性评估的完整链路

高洁净

标准实验室

遵循半导体高洁净标准建设